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第1142章 最精密的学问（第2页）

只一眼，他的目光就定住了。

图上画的是一个极其复杂的机器结构。

分成了四个核心模块。

张红旗的手指，在图上轻轻点过。

“光源。”

“物镜系统。”

“掩膜台。”

“硅片台。”

钱院士的呼吸，停了一下。

他当然认得出来这是什么。

这是光刻机的核心架构。

但让他心惊的不是这个架构图本身。

而是图上那些密密麻麻的手写的标注。

全是英文和德文的缩写，夹杂着公式和参数。

“光源：LPP-EUV，功率要求大于250W，能量转换效率大于5%。”

“物镜：13片非球面反射镜，材料，ULE玻璃，表面粗糙度小于0。1纳米。”

“掩膜台：磁悬浮，同步运动精度小于2纳米。”

钱院士的眼睛，越瞪越大。

这些参数，每一个，都像一颗子弹。

精准地打在他几十年的科研认知上。

国内现在连DUV都还在理论摸索阶段。

这张图，直接跳到了EUV。

而且，给出的指标，比他从国外老同学那里听到的最前沿的实验室数据，还要激进，还要精确。

这根本不是一份方案。

这是一份来自未来的施工图纸。

钱院士的手，下意识地伸过去。

想要抚摸那张图纸。

手指，却在半空中停住了。