所以答案就是B,线性关系。
还有一道数据中心液冷散热的计算题。
【已知冷却液的比热容和流速,求芯片表面温度稳定时的热阻网络模型。】
这题花里胡哨的,可事实上,它的本质上就是热力学第一定律结合欧姆定律的热电类比。
温差相当于电压,热流相当于电流,热阻相当于电阻。
李东画出了等效电路图,三下五除二就算出了结温。
他越写越顺……
直到翻到最后那一页的实验题。
刚才李东只是粗略扫了一眼倒没觉得什么,现在仔细一读……
“这题……”
“这是把光刻机的核心难题给脱敏放出来了?”
题目很长,占了整整一页纸。
【某实验小组为探究投影光刻系统的分辨能力,搭建了简化光刻实验装置:采用波长为λ的单色平行光作为曝光光源,通过数值孔径为NA的投影物镜,将掩模上的精细图案投影到涂有光刻胶的晶圆表面,实现芯片图案的转移。
光刻系统的最小分辨线宽(可清晰区分的两条相邻线条的最小间距)遵循瑞利判据:
δ=0。61λNA
其中数值孔径NA=n?sinθ,n为物镜与晶圆之间介质的折射率,θ为物镜能接收的最大光线的半孔径角。
完成下列问题:】
这题一共三个问题,前两问可能成绩稍微好点的学生就能做出来,甚至都不用学霸。
但是第三题,你说他难吧,确实有奥赛难度,但不是顶尖的那种。
可是他的重点不是解出来,而是怎么解出来才最好。
李东下意识的抬头看了看四周。
此时距离考试结束还有四十分钟,大部分考生都还在抓耳挠腮地对付前面的计算题。
他旁边的那个考生,看着年纪特别小,顶多也就是高一的样子,此刻正咬着笔杆,对着这最后一道题发呆,卷子上大片空白。
“现在的小孩都这么卷了吗?高一就来参加这种比赛?”
李东心里吐槽了一句,随后收回目光,看向试卷。
前面两问李东提笔就写。
【1。求该光刻系统的最小分辨线宽δ?】